Préparation d'échantillons de Cu2O de forte résistivité et étude de leurs propriétés photogalvanomagnétiques aux basses températures. Description des méthodes et du montage utilisés
Rev. Phys. Appl. (Paris), 3 2 (1968) 143-151
DOI: https://doi.org/10.1051/rphysap:0196800302014300