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Analyse stœchiométrique de couches évaporées d'oxyde de silicium par observation simultanée des réactions nucléaires (d, p) sur l'oxygène et le silicium

Rev. Phys. Appl. (Paris), 6 3 (1971) 279-283
DOI: https://doi.org/10.1051/rphysap:0197100603027900