Multiduoplasmatron et multiduopigatron : sources de plasma uniforme pour la formation de faisceaux d'ions multiamperes C. Lejeune, J.P. Grandchamp et J. AubertRev. Phys. Appl. (Paris), 12 12 (1977) 1835-1848DOI: https://doi.org/10.1051/rphysap:0197700120120183500
