Passivation de l'InP par oxydation en plasma RF oxygène et par action de HNO3 vapeur C. Michel, B. Lepley, B. Bouchikhi et S. RaveletRev. Phys. Appl. (Paris), 18 12 (1983) 745-749DOI: https://doi.org/10.1051/rphysap:019830018012074500
