Etude des propriétés électriques et physico-chimiques des couches minces de SiO2 en cours de croissance C. Raisin, E. Vieujot-Testemale, R. Bonny et L. LassabatèreRev. Phys. Appl. (Paris), 19 12 (1984) 997-1003DOI: https://doi.org/10.1051/rphysap:019840019012099700
