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Etude et synthèse de résines positives sensibles aux électrons et aux rayons X utilisées dans les procédés de microlithographie

B. Serre, F. Schué, A. Eranian, E. Datamanti, J.C. Dubois, C. Montginoul et L. Giral

Rev. Phys. Appl. (Paris), 20 2 (1985) 77-86

DOI: https://doi.org/10.1051/rphysap:0198500200207700

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