Lithographie par faisceaux d'ions : simulations et résultats expérimentaux L. Karapiperis, D. Dubreuil, P. David et D. DieumegardRev. Phys. Appl. (Paris), 20 2 (1985) 99-108DOI: https://doi.org/10.1051/rphysap:0198500200209900
