Diffusion de l'arsenic dans les structures silicium-sur-isolant obtenues par implantation d'oxygène N. Guillemot, P. Normand, D. Tsoukalas et P. ChenevierRev. Phys. Appl. (Paris), 23 8 (1988) 1369-1373DOI: https://doi.org/10.1051/rphysap:019880023080136900
