Evolution de la taille des grains du silicium polycristallin pendant des traitements thermiques ou oxydation M. Lemiti, S. Audisio, C. Mai et B. BallandRev. Phys. Appl. (Paris), 24 2 (1989) 133-141DOI: https://doi.org/10.1051/rphysap:01989002402013300
