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Concept and processing of buried photomasks

J.P. Panabière, J.M. Francou, A. Weill, L. Guérin, P. Moschini, A. Inard, G. Amblard et F. Lalanne

Rev. Phys. Appl. (Paris), 25 8 (1990) 859-865

DOI: https://doi.org/10.1051/rphysap:01990002508085900

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