Revue de Physique Appliquée

Longueur de diffusion des porteurs minoritaires et structure de jonction des diodes Cu/Cu2O

C. Noguet, D. Pierrat, M. Tapiero et J.P. Zielinger

Rev. Phys. Appl. (Paris), 15 3 (1980) 595-602

DOI: 10.1051/rphysap:01980001503059500

C. Noguet

D. Pierrat

M. Tapiero

J.P. Zielinger

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