Revue de Physique Appliquée

Résistance du substrat de carbone au silicium fondu dans le procédé RAD

J. Goma, A. Oberlin, E. Kerrand et C. Belouet

Rev. Phys. Appl. (Paris), 19 4 (1984) 297-306

DOI: 10.1051/rphysap:01984001904029700

J. Goma

A. Oberlin

E. Kerrand

C. Belouet

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