Revue de Physique Appliquée

Lithographie par faisceaux d'ions : simulations et résultats expérimentaux

L. Karapiperis, D. Dubreuil, P. David et D. Dieumegard

Rev. Phys. Appl. (Paris), 20 2 (1985) 99-108

DOI: 10.1051/rphysap:0198500200209900

L. Karapiperis

D. Dubreuil

P. David

D. Dieumegard

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