Issue
Rev. Phys. Appl. (Paris)
Volume 3, Number 1, mars 1968
Page(s) 78 - 82
DOI https://doi.org/10.1051/rphysap:019680030107800
Rev. Phys. Appl. (Paris) 3, 78-82 (1968)
DOI: 10.1051/rphysap:019680030107800

Transmission optique et résistance électrique de couches minces de SnO2 préparées par pulvérisation cathodique réactive

J. Baillou, P. Bugnet, J. Deforges, S. Durand et G. Batailler

Laboratoire de Luminescence, Faculté des Sciences, 86-Poitiers


Abstract
Conductor and transparent thin films of SnO2 have been prepared by reactive sputtering. These highly adhesive films have an average transmission factor of 90 % in the visible spectrum, and a constant resistance between - 180 °C and + 200 °C.


Résumé
Nous avons préparé par pulvérisation cathodique réactive des couches minces de SnO2, conductrices et transparentes. Ces couches très adhérentes présentent un coefficient de transmission moyen de 90 % dans le spectre visible, et ont une résistance constante entre - 180 °C et + 200 °C.

PACS
7866N - Insulators.
7350D - Low-field transport and mobility; piezoresistance.

Key words
Cathode sputtering -- Reactive sputtering -- Thin films -- Adhesion -- Absorption spectrum -- Electrical conductivity -- Absorption edge -- Heat treatments -- Fabrication property relation -- Substrates -- Tin oxides -- Experimental study