Numéro
Rev. Phys. Appl. (Paris)
Volume 3, Numéro 2, juin 1968
Page(s) 121 - 126
DOI https://doi.org/10.1051/rphysap:0196800302012100
Rev. Phys. Appl. (Paris) 3, 121-126 (1968)
DOI: 10.1051/rphysap:0196800302012100

Diagramme d'équilibre tridimensionnel de la condensation des plasmas froids (Ta, A, O)* obtenus par pulvérisation cathodique réactive

R. Boistelle et G. Perny

Laboratoire de Physico-Chimie des Couches Minces, École Supérieure de Chimie, 3, rue Werner, 68-Mulhouse


Abstract
The deposition rate of thin films of Ta and Ta2O5 obtained by reactive cathodic pulverisation is studied in terms of experimental parameters (gas pressure, pulverisation voltage, cathode-substrate distance...). Optimal values of these parameters giving perfectly reproductible thin films are found. One obtains a tridimensional diagram in which each figurative point of the space corresponds to a thin film of well defined thickness and chemical composition. Electron microdiffraction and microscopy respectively show that the thin films are quasi amorphous and that the mean diameter of the crystallites is about 20 Å.


Résumé
On étudie la vitesse de formation des couches minces de Ta et Ta2 O5, obtenues par pulvérisation cathodique réactive, en fonction d'un certain nombre de paramètres expérimentaux (pression du ou des gaz, tension de pulvérisation, distance cathode-support...). On montre qu'il existe un ensemble de valeurs optimales de ces paramètres permettant l'obtention des couches minces de manière parfaitement reproductible. On aboutit à un diagramme d'équilibre tridimensionnel où à chaque point figuratif de l'espace correspond une couche mince d'épaisseur et de nature chimique bien déterminées. La microdiffraction et la microscopie électronique montrent respectivement que les couches minces sont quasi amorphes et que le diamètre moyen des cristallites est de l'ordre de 20 Å.

PACS
6855 - Thin film growth, structure, and epitaxy.
6860 - Physical properties of thin films, nonelectronic.

Key words
films -- phase equilibrium -- tantalum -- tantalum compounds