Numéro
Rev. Phys. Appl. (Paris)
Volume 4, Numéro 1, mars 1969
Page(s) 13 - 20
DOI https://doi.org/10.1051/rphysap:019690040101300
Rev. Phys. Appl. (Paris) 4, 13-20 (1969)
DOI: 10.1051/rphysap:019690040101300

Source d'ions à ionisation par bombardement électronique ne comportant pas de champ magnétique auxiliaire de source. Etude des caractéristiques du faisceau électronique lorsque les conditions optimales de focalisation sont réalisées

Jean Chantreau

Faculté des Sciences de Poitiers, Laboratoire de Spectrométrie de Masse, avenue du Recteur-Pineau, 86-Poitiers


Abstract
A mass spectrometer ion source of the Nier type without auxiliary magnetic field has been constructed. In a previous paper [1] we reported experimental and theoretical studies of focalizing conditions for the ionizing electron beam. The present paper deals with the calculation of the thickness of the electron sheet all along the electron accelerating system for voltages ranging from 100 V to 1 000 V taking into account the initial velocity of electrons, space-charge being neglected.


Résumé
Un article antérieur [1] traitait de la possibilité d'obtenir un faisceau d'électrons sensiblement afocal et d'épaisseur minimale, par l'adjonction au système accélérateur d'électrons d'un wehnelt, convenablement polarisé. L'étude expérimentale confirmait l'étude théorique pour des tensions accélératrices des électrons comprises entre 100 et 1 000 V et des courants électroniques allant jusqu'à 50 μA. Le présent article traite plus particulièrement des caractéristiques du faisceau électronique à la focalisation optimale compte tenu des vitesses initiales des électrons. L'étude théorique a été menée dans l'hypothèse où l'on néglige les phénomènes de charge d'espace. Elle précise les rôles respectifs du wehnelt et des autres électrodes dans la réduction de l'épaisseur du faisceau d'électrons, ainsi que les contributions des diverses régions de la cathode à la formation du faisceau.

PACS
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0780 - Electron and ion microscopes and techniques.
2925C - Ion sources: positive, negative and polarized.
4180D - Electron beams and electron optics.
4180G - Ion beams and ion optics.
5150 - Moving charges in electric and magnetic fields.
7410D - Particle sources and targets.

Key words
electron beams -- focusing -- ion sources -- particle sources