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Rev. Phys. Appl. (Paris)
Volume 5, Numéro 3, juin 1970
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| Page(s) | 545 - 549 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/rphysap:0197000503054500 | |
DOI: 10.1051/rphysap:0197000503054500
Cinétique et mécanisme de la siliciuration du niobium et de l'oxydation des siliciures de niobium à basse pression et à haute température
C. Gelain, A. Cassuto et P. LegoffCentre de Cinétique Physique et Chimique du C. N. R. S., 54, Villers-Nancy
Abstract
Siliconization of niobium ribbons while decomposing heterogeneously SiH 4 results from a competition between surface enrichment in silicon and diffusion towards the bulk metal. We have studied the kinetic of the decomposition process on silicon and the silicides, and the surface transformation during siliconization. In presence of oxygen, ribbons covered with silicon or silicides show a sharp transition between a passivated state, when the surface is covered with SiO2 to a stationary combustion regime resulting from vaporization of SiO. When the ribbon consists in a solid solution of silicon in niobium, we have determined the rate of the reaction between oxygen and the non volatile niobium oxide formed on the surface. A model based on the thermodynamic equilibrium of the components agrees with the experimental results.
Résumé
La siliciuration de rubans de niobium par décomposition hétérogène de SiH 4 résulte d'une compétition entre l'apport du silicium en surface et sa diffusion à l'intérieur du métal. On a étudié la cinétique de décomposition de SiH4 sur le silicium et sur les siliciures, ainsi que l'évolution de la surface pendant la siliciuration. En chauffant des rubans siliciurés ou recouverts de silicium en présence d'oxygène, on a mis en évidence la transition brutale de l'état de passivation du métal, protégé par une couche de SiO2, à un régime stationnaire de combustion rapide du silicium, résultant de la vaporisation de l'oxyde SiO ; dans le cas de rubans constitués d'une solution solide du silicium dans le niobium, on a déterminé la cinétique de réaction de l'oxygène sur la couche d'oxyde de niobium non volatil formée en surface.
8165K - Corrosion protection.
8165M - Oxidation.
Key words
Oxidation -- Oxidation protection -- Kinetics -- Reaction mechanism -- Siliconizing -- Surface treatments -- Reaction rates -- Passivation -- Thermodynamic equilibrium -- Niobium -- Experimental study
