Numéro |
Rev. Phys. Appl. (Paris)
Volume 11, Numéro 3, mai 1976
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Page(s) | 377 - 385 | |
DOI | https://doi.org/10.1051/rphysap:01976001103037700 |
DOI: 10.1051/rphysap:01976001103037700
Kinetics of thermal desorption using Auger electron spectroscopy application to cesium covered (110) gallium arsenide
J. Derrien et F. Arnaud D'AvitayaCentre de Recherche sur les Mécanismes de la Croissance Cristalline, C. N. R. S., Université d'Aix-Marseille , U. E. R. Scientifique de Luminy, Département de Physique, 13288 Marseille Cedex 2, France
Abstract
We propose a new method for monitoring surface reactions kinetics using Auger Spectroscopy. It allows continuous observations of adsorption and desorption kinetics of an element A on the surface of a substrate B. The apparatus designed for this purpose transforms a standard Auger electron spectrometer into a detector measuring the rate of these surface reactions. We have used this technique to study the thermal desorption of cesium from (110) gallium arsenide. Several binding states are found.
Résumé
Nous proposons une nouvelle méthode pour suivre continûment, par Spectroscopie Auger, sous ultra-vide, les cinétiques d'ad- ou de désorption d'un corps A sur la surface d'un substrat B. L'appareillage réalisé permet de transformer un spectromètre Auger classique en suiveur de vitesse de ces réactions de surface. Nous appliquons notre technique à une étude préliminaire de la cinétique de thermodésorption du césium déposé sur l'arseniure de gallium face (110) et mettons en évidence différents états d'adsorption.
6845 - Solid fluid interface processes.
7920F - Electron surface impact: Auger emission.
Key words
Auger effect -- caesium -- desorption -- gallium arsenide -- thermal desorption -- Auger electron spectroscopy -- surface reaction kinetics -- Cs coated GaAs