Numéro
Rev. Phys. Appl. (Paris)
Volume 13, Numéro 3, mars 1978
Page(s) 155 - 159
DOI https://doi.org/10.1051/rphysap:01978001303015500
Rev. Phys. Appl. (Paris) 13, 155-159 (1978)
DOI: 10.1051/rphysap:01978001303015500

Mesures optiques sous ultra-vide à basses températures sur couches minces préparées in situ

V. Nguyen Van et S. Fisson

Laboratoire d'Optique des Solides , Université Pierre et Marie Curie, 4, place Jussieu, 75230 Paris, France


Abstract
We describe a system enabling the fabrication of thin films in ultra-high vacuum and the in situ measurement at various temperatures, between 8 K and 350 K, of their reflectivity R and transmissivity T for wavelengths comprised between 0.27 μm and 2 μm together with their d.c. resistivity. The optical set-up is compared to a simpler one. The possibilities of the system are illustrated by investigating thin Au films deposited at 30 K.


Résumé
On décrit un dispositif permettant la fabrication de couches minces sous ultra-vide et la mesure in situ à différentes températures, entre 8 K et 350 K, de leurs facteurs de réflexion R et de transmission Tpour des longueurs d'onde comprises entre 0,27 μm et 2 μm, ainsi que de leur résistance électrique. Le montage optique utilisé est comparé à un autre montage plus simple mais d'utilisation plus délicate. Les possibilités de ce dispositif sont illustrées dans le cas de couches minces d'Au déposées à 30 K.

PACS
7360 - Electrical properties of thin films and low dimensional structures.
7865 - Optical properties of thin films and low dimensional structures.
8115G - Vacuum deposition.

Key words
electronic conduction in metallic thin films -- gold -- light transmission -- vacuum deposited coatings -- ultrahigh vacuum -- low temperatures -- fabrication of thin films -- reflectivity -- transmissivity -- Au films -- experimental apparatus -- 8 to 350K -- in situ optical measurements -- wavelengths 0.27 to 2 micrometers -- DC resistivity