Numéro
Rev. Phys. Appl. (Paris)
Volume 21, Numéro 12, décembre 1986
Page(s) 775 - 784
DOI https://doi.org/10.1051/rphysap:019860021012077500
Rev. Phys. Appl. (Paris) 21, 775-784 (1986)
DOI: 10.1051/rphysap:019860021012077500

Dépôt d'alliages amorphes NixAg1 - x par pulvérisation RF ; étude en temps réel de leurs cinétiques de cristallisation

L. Protin1, J. Grenet1 et G. Fleury2

1  Laboratoire d'Etude des Couches Minces Amorphes et Polycristallines, Faculté des Sciences, B.P. 67, 76130 Mont-Saint-Aignan, France
2  Laboratoire d'Electronique et d'Automatique, Composants de l'Université du Havre, place Robert-Schumann, 76600 Le Havre, France


Abstract
The experimental system performed to obtain reproducible amorphous Ni xAg1 - x thin films and the apparatus used to study the crystallization kinetics in real-time are here described. We show the effect of the experimental deposition processus on the reproducibility. The studies, in real-time, of the isothermal crystallization kinetics for some samples lead to a certain characterization of the initial state of the samples.


Résumé
Le dispositif expérimental d'obtention reproductible de couches minces d'alliages métalliques amorphes NixAg1 - x est décrit ainsi que le matériel d'étude en temps réel de leurs cinétiques de cristallisation. On montre l'influence du processus expérimental d'obtention des couches sur la reproductibilité. L'étude, en temps réel, des cinétiques de cristallisation en régime isotherme de quelques échantillons permet une certaine caractérisation de l'état initial des couches obtenues.

PACS
6140 - Structure of amorphous and polymeric materials.
6855 - Thin film growth, structure, and epitaxy.
8115C - Deposition by sputtering.

Key words
amorphous state -- crystallisation -- metallic thin films -- nickel alloys -- silver alloys -- sputtered coatings -- RF sputtering -- crystallization kinetics -- real time -- deposition -- amorphous Ni sub x Ag sub 1 x thin films