Numéro
Rev. Phys. Appl. (Paris)
Volume 24, Numéro 10, octobre 1989
Page(s) 1001 - 1006
DOI https://doi.org/10.1051/rphysap:0198900240100100100
Rev. Phys. Appl. (Paris) 24, 1001-1006 (1989)
DOI: 10.1051/rphysap:0198900240100100100

Microlithography with a laser plasma X-ray source

I. Thoubans1, R. Fabbro1, H. Pepin2 et M. Chaker2

1  Laboratoire LULI, Ecole polytechnique, 91128 Palaiseau, France
2  INRS Energie Université du Quebec P. O. Box 1020, Varennes, Québec, Canada JOL 2PO


Abstract
In this paper, we present our results about a laser produced X-ray source and in particular we have been interested in the influence of laser wavelength, pulse duration and pulse shape on conversion efficiency. Then, we have used this source in order to reproduce submicron pattern using the FBM120 resist which have been characterized. Experimental results are compared with numerical results obtained with our code LITHOX.


Résumé
Dans ce papier, nous présentons les résultats obtenus concernant une source X créée par plasma laser et, en particulier, l'influence de la longueur d'onde laser, de la durée et de la forme de l'impulsion sur Ie rendement de conversion ont été étudiées. Cette source a ensuite été utilisée pour la reproduction de motifs submicroniques en utilisant comme résine la FBM120. Les résultats expérimentaux sont comparés aux résultats des simulations numériques obtenus avec notre code LITHOX.

PACS
0785 - X ray, gamma ray instruments and techniques.
5250J - Plasma production and heating by laser beams.
2550G - Lithography semiconductor technology.
7450 - X ray and gamma ray equipment.

Key words
plasma production and heating by laser beam -- X ray lithography -- X ray production -- X ray microlithography -- numerical code -- laser plasma X ray source -- conversion efficiency -- submicron patterns -- FBM120 resist -- LITHOX