Numéro
Rev. Phys. Appl. (Paris)
Volume 24, Numéro 12, décembre 1989
Page(s) 1129 - 1136
DOI https://doi.org/10.1051/rphysap:0198900240120112900
Rev. Phys. Appl. (Paris) 24, 1129-1136 (1989)
DOI: 10.1051/rphysap:0198900240120112900

Rôle du temps d'insolation dans les performances lithographiques du système Ag2Se/GeSey

Y. Brocheton1, B. Cros2, A. Tissier1 et M. Ribes2

1  CNET-Grenoble, BP 98, chemin du Vieux-Chêne, 38243 Meylan, France
2  Laboratoire de Physicochimie des Matériaux Solides, U.R.A. D0407, USTL, Place Eugène Bataillon, 34060 Montpellier Cedex 1, France


Abstract
Phenomena related with the silver ions migration and models of image formation in the system Ag2Se/GeSey are discussed. The role of exposure time on the lithographic capabilities of the system has been studied : increasing the incident intensity at constant dose improves the selectivity of the system, whereas the contrast and the resolution are not much modified. The use of a weak exposure dose is accompanied by an increase of the threshold doses and a pronounced loss of control. These results are corroborated by a simulation wich gives an estimation of the whole variation of the linewidths as a function of the exposure dose.


Résumé
Les phénomènes associés à la migration des ions argent et les modèles de formation de l'image dans le système Ag2Se/GeSey sont discutés. L'étude du rôle du temps d'insolation dans les performances lithographiques du système montre qu'à dose constante, un abaissement de l'intensité incidente améliore la sélectivité, tandis que le contraste et la résolution sont peu modifiés. L'utilisation d'un faible débit de dose s'accompagne d'une élévation des doses seuils (doses au-delà desquelles les motifs résistent au développement) et d'une perte de contrôle accentuée. Ces résultats sont confirmés par une simulation estimant la variation globale des largeurs de traits en fonction de la dose d'exposition.

PACS
0768 - Photography, photographic instruments; xerography.

Key words
germanium compounds -- IV VI semiconductors -- photographic materials -- photolithography -- silver compounds -- Ag ions migration -- constant dose intensity -- image formation models -- exposure dose function -- semiconductors -- exposure time -- lithographic capabilities -- contrast -- resolution -- weak exposure dose -- threshold doses -- linewidths -- Ag sub 2 Se GeSe sub y