Numéro
Rev. Phys. Appl. (Paris)
Volume 25, Numéro 7, juillet 1990
Page(s) 753 - 761
DOI https://doi.org/10.1051/rphysap:01990002507075300
Rev. Phys. Appl. (Paris) 25, 753-761 (1990)
DOI: 10.1051/rphysap:01990002507075300

Caractérisation géométrique d'un condensat métallique sur diélectrique à l'approche du seuil de percolation

G. Desrousseaux et A. Carlan

Laboratoire des Propriétés Physiques des Couches Minces, Université d'Aix-Marseille , Faculté des Sciences et Techniques de Saint-Jérôme, Avenue Escadrille Normandie-Niémen, 13397 Marseille Cedex 13, France


Abstract
At the approach of the percolation threshold, the outlines of islands of discontinuous metallic deposits on amorphous substrate, cease to be circular so as to delimite channels. We propound a modellisation of the metal repartition in these deposits. This modellisation enables us to quantitatively depict this repartition by only measuring the sheet conductance and the mass thickness of the deposit. This conversion of these electrical measures in terms of geometrical quantities supposes that the prevalent mechanism of electrical conduction between the islands is the tunnelling via their substrate.


Résumé
A l'approche du seuil de percolation, les contours des îlots de dépôts métalliques discontinus sur substrat amorphe cessent d'être circulaires pour délimiter des espacements s'allongeant en forme de canaux. Nous proposons une modélisation de la répartition du métal dans de tels dépôts. L'utilisation de ce modèle nous permet de décrire quantitativement cette répartition en utilisant les seules mesures de la conductance de couche et de l'épaisseur massique du dépôt. Cette conversion de ces mesures électriques en termes de quantités géométriques suppose que le mécanisme prépondérant de la conduction électrique entre les agrégats est l'effet tunnel via le substrat.

PACS
7360D - Electrical properties of metals and metallic alloys thin films/low dimensional structures.
6855 - Thin film growth, structure, and epitaxy.

Key words
discontinuous metallic thin films -- electronic conduction in metallic thin films -- percolation -- tunnelling -- deposit mass thickness -- dielectric -- percolation threshold -- discontinuous metallic deposits -- amorphous substrate -- metal repartition -- sheet conductance -- electrical conduction