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Article cité :

Homogénéité d'épaisseur et propriétés électriques des couches minces de silice obtenues dans un mélange N2/O2/HCl

G. Sarrabayrouse, J. Capilla

Rev. Phys. Appl. (Paris), 20 2 (1985) 87-91

DOI: https://doi.org/10.1051/rphysap:0198500200208700

Citations de cet article :

Detection of interface and volume traps in very thin oxide MOS structures using DLTS, quasi-static and conductance measurements

D. Bauza, P. Morfouli and G. Pananakakis
Solid-State Electronics 34 (9) 933 (1991)
https://doi.org/10.1016/0038-1101(91)90210-P