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Structural characterization of amorphous SiCxNy chemical vapor deposited coatings
A. Bendeddouche, R. Berjoan, E. Bêche, T. Merle-Mejean, S. Schamm, V. Serin, G. Taillades, A. Pradel and R. Hillel Journal of Applied Physics 81(9) 6147 (1997) https://doi.org/10.1063/1.364396
An AES study of intrinsic and ion-induced structure in the SiO2-Si system