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Citations de cet article :

Effects of ion bombardment and chemical reaction on wafer temperature during plasma etching

A. Durandet, O. Joubert, J. Pelletier and M. Pichot
Journal of Applied Physics 67 (8) 3862 (1990)
DOI: 10.1063/1.345009
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Semiconductor Lithography

Wayne M. Moreau
Semiconductor Lithography 631 (1988)
DOI: 10.1007/978-1-4613-0885-0_13
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Kinetic studies of SF6 plasmas during etching of Si

Werner W. Brandt and John J. Wagner
Plasma Chemistry and Plasma Processing 3 (3) 329 (1983)
DOI: 10.1007/BF00564630
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