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Citations de cet article :

AES depth profiling of a new type of multilayer structure composed of Cr/Ni layers of various thicknesses

A Zalar, P Panjan and S Hofmann
Thin Solid Films 181 (1-2) 277 (1989)
DOI: 10.1016/0040-6090(89)90495-1
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EUV LITHOGRAPHY FOR SEMICONDUCTOR MANUFACTURING AND NANOFABRICATION

HIROO KINOSHITA
COSMOS 03 (01) 51 (2007)
DOI: 10.1142/S0219607707000219
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Surface evaluation of ultrathin platinum films

Sei-chi Itabashi and Hideo Yoshihara
Thin Solid Films 221 (1-2) 79 (1992)
DOI: 10.1016/0040-6090(92)90799-H
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The Influence of H2Plasma Treatment on LWR Mitigation: The Importance of EUV Photoresist Composition

Peter De Schepper, Ziad el Otell, Alessandro Vaglio Pret, Efrain Altamirano-Sanchez and Stefan De Gendt
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AES, XPS and TEM characterization of metal/oxide multilayers

A Zalar, B Praček, M Drab, et al.
Vacuum 43 (5-7) 489 (1992)
DOI: 10.1016/0042-207X(92)90063-3
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Optical Devices for Extreme Ultraviolet

Hisataka TAKENAKA
The Review of Laser Engineering 35 (3) 154 (2007)
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Large-area, high-resolution pattern replication by the use of a two-aspherical-mirror system

H. Kinoshita, K. Kurihara, T. Mizota, et al.
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Multilayer transmission polarizers in the soft X-ray region

A Derossi, F Lama, M Piacentini and N Zema
Pure and Applied Optics: Journal of the European Optical Society Part A 3 (4) 643 (1994)
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History of extreme ultraviolet lithography

Hiroo Kinoshita
Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures 23 (6) 2584 (2005)
DOI: 10.1116/1.2127950
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Current Status for Soft X-ray/Extreme Ultra-Violet Optical Devices

Hisataka TAKENAKA, Satoshi ICHIMARU and Masatoshi HATAYAMA
The Review of Laser Engineering 42 (1) 60 (2014)
DOI: 10.2184/lsj.42.1_60
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