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Etude de résines négatives sensibles aux électrons utilisées dans les procédés de microlithographie

B. Holil, R. Sagnes, B. Serre, F. Schué, C. Montginoul, L. Giral, F. Buiguez et C. Rosilio

Rev. Phys. Appl. (Paris), 20 3 (1985) 143-149

DOI: https://doi.org/10.1051/rphysap:01985002003014300

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