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Diffusion de l'arsenic dans les structures silicium-sur-isolant obtenues par implantation d'oxygène

N. Guillemot, P. Normand, D. Tsoukalas et P. Chenevier

Rev. Phys. Appl. (Paris), 23 8 (1988) 1369-1373

DOI: https://doi.org/10.1051/rphysap:019880023080136900

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