Revue de Physique Appliquée

Multiduoplasmatron et multiduopigatron : sources de plasma uniforme pour la formation de faisceaux d'ions multiamperes

C. Lejeune, J.P. Grandchamp et J. Aubert

Rev. Phys. Appl. (Paris), 12 12 (1977) 1835-1848

DOI: 10.1051/rphysap:0197700120120183500

C. Lejeune

J.P. Grandchamp

J. Aubert

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