Numéro |
Rev. Phys. Appl. (Paris)
Volume 1, Numéro 2, juin 1966
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Page(s) | 120 - 122 | |
DOI | https://doi.org/10.1051/rphysap:0196600102012000 |
DOI: 10.1051/rphysap:0196600102012000
Appareillage permettant la détermination dans l'ultraviolet lointain des constantes optiques de couches évaporées sous ultra-vide
André Daudé et Stéphane RobinLaboratoire de Spectroscopie, Faculté des Sciences de Rennes
Abstract
A description is given of an apparatus for evaporation under ultra-high vacuum (5 × 10-10 Torr) of thin films sample and optical measurements in vacuum ultraviolet to 1 200 Å are descrited. The thin films are studied in the chamber where they have been grown. We can measure the transmission or the reflectance of the incident light for two angles of incidence (20 degrees and 60 degrees) and deduce the optical constants (n, index of refraction ; k, extinction coefficient) of the sample studied.
Résumé
Nous décrivons un appareil permettant d'évaporer sous ultra-vide (5 × 10-10 Torr) un matériau sous forme de couche mince et de faire des mesures optiques dans l'ultraviolet jusqu'à 1 200 Å. Les couches minces sont étudiées dans l'enceinte où elles ont été réalisées. Nous pouvons mesurer la transmission du rayonnement incident ou sa réflexion suivant deux angles d'incidence (20 degrés et 60 degrés) et en déduire les constantes optiques (n, indice de réfraction ; k, indice d'extinction) du matériau étudié [1].
0730K - Vacuum chambers, auxiliary apparatus, and materials.
0760H - Refractometers and reflectometers.
7820C - Optical constants (including refractive index, complex dielectric constant, absorption, reflection and transmission coefficients, emissivity).
Key words
Reflectometers -- Far ultraviolet radiation -- Measurement systems -- Ultrahigh vacuum -- Vacuum evaporation -- Thin film -- Instrumentation -- Optical constants