Numéro
Rev. Phys. Appl. (Paris)
Volume 6, Numéro 3, septembre 1971
Page(s) 325 - 327
DOI https://doi.org/10.1051/rphysap:0197100603032500
Rev. Phys. Appl. (Paris) 6, 325-327 (1971)
DOI: 10.1051/rphysap:0197100603032500

Étude d'une source d'ions de basse énergie et à forte densité de courant

P. Le Vaguerèse et D. Pigache

Service d'Energétique, Office National d'Etudes et de Recherches Aérospatiales, 92-Chatillon-sous-Bagneux


Abstract
An ion source of low energy (from 5 to 100 electron-volts) has been carried out. The extracted ion current density is higher than what has been obtained so far in this energy range. The extraction system is made of a thin mesh grid. The holes dimension is smaller than the sheath thickness in the ionization chamber.


Résumé
Une source d'ions de basse énergie (entre 5 et 100 électrons-volts) a été mise au point. La densité du courant d'ions extrait est supérieure à ce qui a été obtenu jusqu'ici dans cette gamme d'énergie. Le système d'extraction est constitué d'une grille à maille très fine. La dimension des trous est inférieure à l'épaisseur de gaine dans la chambre d'ionisation.

PACS
0777 - Particle beam production and handling: targets.
0780 - Electron and ion microscopes and techniques.
2925C - Ion sources: positive, negative and polarized.
4180G - Ion beams and ion optics.
7410D - Particle sources and targets.

Key words
ion beams -- ion sources -- particle sources -- low energy ion source -- high current density -- thin mesh grid -- sheath thickness -- ionization chamber