Numéro |
Rev. Phys. Appl. (Paris)
Volume 7, Numéro 4, décembre 1972
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Page(s) | 385 - 393 | |
DOI | https://doi.org/10.1051/rphysap:0197200704038500 |
DOI: 10.1051/rphysap:0197200704038500
Préparation d'échantillons Mössbauer par évaporation sous vide
G. Marchal et C. JanotLaboratoire de Physique du Solide Université de Nancy I, CO n° 72 2
Abstract
A description is given of a method to obtain vacuum-deposited thin iron films, as monolayers, to be investigated by Mössbauer technique in transmission geometry. Iron is condensed on a thin aluminium film deposited at first, then covered with SiO, then another aluminium film is deposited... and so on to form a number of superposed sandwiches thus increasing the effective absorber thickness. Iron, SiO and aluminium together are evaporated and the sample « looks at » each cell one after to other during a time depending of the wanted thickness. Residual gazes in the vacuum-room are analysed by mass spectrometer ; it appears that corrosion by water molecules or carbon oxyde occurs if the vacuum rate is too weak.
Résumé
On décrit une méthode de préparation d'échantillons susceptibles d'être observés en spectrométrie Mössbauer de transmission. Il s'agit de couches multiples Al-Fe-SiO obtenues par évaporation sous vide, grâce à un dispositif automatique. Trois sources d'évaporation fonctionnent simultanément ; les échantillons se présentent successivement devant chacune d'elles pendant un temps qui dépend de l'épaisseur des dépôts imposée. L'analyse au spectromètre de masse des gaz résiduels pendant les différentes phases de l'opération indique qu'il existe un risque non négligeable de pollution des échantillons par la vapeur d'eau et l'oxyde de carbone, si la vitesse de pompage n'est pas suffisante.
0730G - Vacuum apparatus and testing methods.
8110B - Crystal growth from vapour.
8115 - Methods of thin film deposition.
Key words
iron -- metallic thin films -- Mossbauer effect -- vacuum techniques -- preparation -- Mossbauer samples -- vacuum deposition