Rev. Phys. Appl. (Paris) 12, 1453-1457 (1977)
DOI: 10.1051/rphysap:0197700120100145300

Performance of the reflected beam sputter source

K. Brand

Ruhr-Universität Bochum, Dynamitron-Tandem-Laboratorium, Universitätsstraße 150, 4630 Bochum 1, Germany

Abstract
The reflected beam sputter source is a modification of a Hiconex 834 sputter source. Instead of target cones small cylindrical pills of target material are being used which are bombarded by the reflected cesium beam. Some output data, results on transmission and emittance measurements are presented. The source turns out to be superior to the original in most properties.

Résumé
La source d'ions sputter à faisceau réflecté est une modification de la source Hiconex 834. Au lieu d'utiliser un cône, la cible a la forme d'un cylindre composé du matériau que l'on veut accélérer. Elle est bombardée par le faisceau réflecté de césium. On présente quelques caractéristiques sur les performances de la source ainsi que les résultats des mesures sur la transmission et l'émittance. On a établi que la source modifiée est plus performante que l'originale pour la plupart des caractéristiques.

PACS
2925C - Ion sources: positive, negative and polarized.
7410D - Particle sources and targets.

Key words
ion sources -- reflected beam sputter source -- Hiconex 834 sputter source -- transmission -- emittance