Rev. Phys. Appl. (Paris) 15, 1479-1487 (1980)
DOI: 10.1051/rphysap:019800015090147900

Problèmes pratiques posés par la production du vide dans les systèmes d'attaques sous plasma et L.P.C.V.D.

P. Duval

CIT-ALCATEL, 98, avenue de Brogny, 74000 Annecy, France

Abstract
Semiconductor manufacturing trends have initiated industrial scale implementation of processes (L.P.C.V.D., L.T.O., Plasma Etching, Plasma Deposition, etc.) employing corrosive or dangerous gases. The operating range of these systems (0.5 to 100 Pa) is bracketed by the application limits of oil-sealed vane or oscillating-piston vacuum pumps. Creating a vacuum in these new machines poses unprecendented problems for the designer, however. The development of vacuum pumps and their auxiliary equipment is traced, emphasizing the need for a good seal and the elimination under high-corrosion conditions of solid particles generated either in the process itself or by secondary reactions in the pump. Selection of correct lubricating oils for mechanical pumps ensures their proper function and protects operating personnel.

Résumé
Le développement, à l'échelle industrielle, des nouveaux procédés de production des micro-circuits pose de nouveaux problèmes pour l'obtention du vide qui leur est nécessaire. Ces problèmes résultent des fluides corrosifs et dangereux mis en oeuvre ainsi que des grandes quantités de particules abrasives que les pompes à vide doivent absorber. On examine les modifications qu'il faut faire subir aux systèmes de pompage, les nouveaux fluides de lubrification à utiliser, ainsi que les précautions à prendre pour assurer la sécurité des installations, et les impératifs de maintenance nécessités par cette nouvelle chimie sous vide.

PACS
0730C - Vacuum pumps and pumping techniques.
8115H - Chemical vapour deposition.
8160 - Corrosion, oxidation, etching, and other surface treatments.

Key words
chemical vapour deposition -- etching -- vacuum pumps -- vacuum pumping -- plasma etching -- LPCVD -- correct lubricating oils -- semiconductor manufacture -- plasma deposition -- LTO -- corrosive gases -- oil sealed vane -- oscillating piston vacuum pump