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Identification of imperfections contribution to electronic conductivity in monocrystalline metal film

C.R. Tellier, L. Hafid et A.J. Tosser
Rev. Phys. Appl. (Paris), 15 11 (1980) 1573-1577
DOI: https://doi.org/10.1051/rphysap:0198000150110157300


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