Revue de Physique Appliquée

Contrôle du dopage dans la croissance épitaxiale d'arséniure de gallium

A. Boucher, J.P. Chané et E. Fabre

Rev. Phys. Appl. (Paris), 6 1 (1971) 5-10

DOI: 10.1051/rphysap:01971006010500

A. Boucher

J.P. Chané

E. Fabre

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