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Revue de Physique Appliquée

Volume 16 / No 10 (octobre 1981)


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Les générateurs à plasma p. 549

F. Kassabji and P. Fauchais
DOI: https://doi.org/10.1051/rphysap:019810016010054900
  • Abstract
  • PDF (4.795 MB)
  • References

Qualitative and quantitative assessments of the growth of (Al,Ga) As-GaAs heterostructures by in situ ellipsometry p. 579

G. Laurence, F. Hottier and J. Hallais
DOI: https://doi.org/10.1051/rphysap:019810016010057900
  • Abstract
  • PDF (1.652 MB)
  • References

Méthode de mesure de la longueur de diffusion dans des rubans de silicium polycristallin destinés à la conversion photovoltaïque p. 591

H. Nodet, D. Casenave, R. Gauthier and P. Pinard
DOI: https://doi.org/10.1051/rphysap:019810016010059100
  • Abstract
  • PDF (719.0 KB)
  • References

Influence de la température sur la vitesse limite des trous dans un transistor MOS à canal court de type P p. 597

M. Gamboa, T. Phan Pham, H. Tranduc and P. Rossel
DOI: https://doi.org/10.1051/rphysap:019810016010059700
  • Abstract
  • PDF (315.4 KB)
  • References

Asservissement de la fréquence d'un laser à colorant sur une référence atomique balayable par un champ magnétique p. 601

N. Courtier and M. Dumont
DOI: https://doi.org/10.1051/rphysap:019810016010060100
  • Abstract
  • PDF (1.731 MB)
  • References

Revue de livres p. 613

DOI: https://doi.org/10.1051/rphysap:019810016010061300
  • Abstract
  • PDF (218.7 KB)

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