Contamination d'un plasma d'argon par des vapeurs anodiques de cuivre

Abstract
The region close to the copper anode (1 mm to 1 cm) of a stabilized arc discharge in argon (15 A and 30 A) is studied. An important drop in temperature due to the metal vapor as well as the concentric and peripherical copper distribution are shown up. The copper concentration is between 10-2 and 10-5. The method allowing to compute the different parameters is given.

Résumé
La région proche de l'anode en cuivre (1 mm à 1 cm) d'un arc stabilisé sous atmosphère d'argon (15 A et 30 A) est étudiée. Un abaissement de température important dû à la présence des vapeurs métalliques ainsi que la répartition concentrique et périphérique du cuivre sont mis en évidence. La concentration en cuivre se situe entre 10-2 et 10-5. La méthode permettant de calculer les différents paramètres à partir des valeurs expérimentales est indiquée.