Study of ESR absorption and bonding character of copper (II) complex with L-Hydroxyproline p. 411 B.N. Misra et R. Kripal DOI: https://doi.org/10.1051/rphysap:01981001608041100 RésuméPDF (1.070 MB)Références
Plasma anodization of silicon at room temperature p. 419 P. Dimitriou et S. Gourrier DOI: https://doi.org/10.1051/rphysap:01981001608041900 RésuméPDF (977.7 KB)Références
Corrélations entre les propriétés des dépôts et les conditions de fonctionnement d'une installation de projection plasma : un exemple, l'alumine y p. 425 M. Vardelle, A. Vardelle, J.L. Besson et P. Fauchais DOI: https://doi.org/10.1051/rphysap:01981001608042500 RésuméPDF (1.514 MB)Références
Expressions du potentiel électrostatique pour des systèmes à symétrie plane et charge d'espace nulle p. 435 J. Dard et C. Berger DOI: https://doi.org/10.1051/rphysap:01981001608043500 RésuméPDF (723.4 KB)Références
Storage and injection of charged particles in an electrostatic trap p. 441 Chun-Sing O. et H.A. Schuessler DOI: https://doi.org/10.1051/rphysap:01981001608044100 RésuméPDF (903.0 KB)Références
