Rev. Phys. Appl. (Paris) 12, 1465-1469 (1977)
DOI: 10.1051/rphysap:0197700120100146500

The energy spread of some negative ions from a sputter source

G. Doucas

Nuclear Physics Laboratory, University of Oxford, Oxford, England

Abstract
Energy distribution measurements on 20 keV beams of 12C -, 32S-, 127I-, H- and 160-have shown no obvious differences between H- and 16O- on the one hand, which are believed to be produced in an adsorbed layer on the target, and 12C -, 32S- and 127I- on the other which are part of the target material. All spectra have a single peak and a FWHM of the order of 10-12 eV. The significance of the energy distribution in the calculation of beam brightness is also discussed.

Résumé
Des mesures de la distribution d'énergie sur des faisceaux de 12C -, 32S-, 127I-, H- et 16O- d'énergie 20 keV n'ont montré aucunes différences évidentes entre H- et 16O- d'une part (on pense qu'ils sont produits dans une couche absorbée de la cible) et 12C -, 32S- et 127I- d'autre part, qui font partie du matériau de la cible. Tous les spectres ont un seul pic et une largeur de l'ordre de 10-12 eV. La signification de la distribution en énergie dans le calcul de la brillance du faisceau est également discutée.

PACS
2925C - Ion sources: positive, negative and polarized.
7410D - Particle sources and targets.

Key words
ion sources -- energy spread -- negative ions -- sputter source -- 20 keV beams -- sup 12 C sup -- sup 32 S sup -- sup 127 I sup -- H sup -- sup 16 O sup -- beam brightness