Rev. Phys. Appl. (Paris) 13, 709-713 (1978)
DOI: 10.1051/rphysap:019780013012070900

Production of submicronstructures in highly conductive substrates

H.A.M. van den Berg

Delft University of Technology, The Netherlands

Abstract
The optical projection technique on highly reflective substrates has been considered in order to realize patterns far into the submicron range. The image formation utilizing high numerical lenses has been theoretically treated. In the section on theory full account has been given of the vectorial character of the electromagnetic radiation. Conclusions have been drawn regarding the image in the resist and about the pattern which is formed in the metal if chemical or sputter etching is applied. It is shown theoretically as well as experimentally that the problems arising in conjunction with the standing waves can be solved by applying anti-reflecting coatings consisting of amorphous silicon and selenium.

Résumé
On a étudié la technique de projection optique sur des substrats de réflectivité élevée, tels que des métaux, afin de préparer des dessins submicrométriques. La formation d'images avec des objectifs à ouverture élevée a été traitée théoriquement. Le caractère vectoriel du rayonnement électromagnétique a été entièrement pris en considération. Des conclusions ont été tirées quant à l'image dans la laque photosensible et au dessin formé dans le métal par gravure chimique ou par gravure par bombardement ionique. On montre, aussi bien théoriquement qu'expérimentalement, que les problèmes, associés avec les ondes stationnaires, peuvent être résolus par application d'une couche anti-reflet de silicium ou sélénium sur les couches métalliques.

PACS
2220C - General integrated circuit fabrication techniques.
2550 - Semiconductor device technology.
2550G - Lithography semiconductor technology.
2570 - Semiconductor integrated circuits.

Key words
integrated circuit technology -- photolithography -- highly conductive substrates -- image formation -- resist -- etching -- standing waves -- optical projection lithography -- submicron structures -- antireflection coatings